某半导体技术打造企业的因晶圆冲洗制作工序制造含氨生产废水，出水量200吨/天。生产废河中除高锰酸盐指数外还包含有氟化物和氢化物发生器巨资属，治理 高难度大。当地城市摆放规则规定高锰酸盐指数＜5mg/L，氟化物＜3mg/L。 生活污水组分及的来源 晶圆家电清洗污废水 （注意來源）：含挥发酚200-300mg/L，氟化物50-80mg/L 刻蚀程序废污水：含轻微铜、镍等巨资属，pH值跌涨大 CMP机磨废水处理方法：含硅颗料及高锰酸盐指数 治理工艺技术环节 选择"耐腐蚀沉积+膜离心分离+折点氯化"组合公式方法： 预处里 ：加药系统CaCl2除氟，设定pH在7.5-8. 反渗透装置模式 ：避开0.01μm左右颗粒状物 反融于精提 ：将氯离子原谅我真的喝醉了 因为我真的想你的 一不小心 我知道这样不应该 对你泰国依赖 至1000mg/L以上内容 折点氯化 ：准确调整氯加药量，将高锰酸盐指数转成为N2 阴阳离子交換 ：维护高价属符合标准 不可能功能 氧化还原电位安稳＜3mg/L，氟化物＜1mg/L 天价属含氧量不低于检验限 水回收率达75% 生活污水行成量降低40%