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电子半导体废水怎么处理|电子半导体废水如何处理

该晶圆加工制造商为于豫东省份,其主要制造8英尺半导体器件晶圆,单日废污水排卸量约800吨。因制造时候中食用过多盐酸进行晶圆蚀刻,使得废污池里氟化物有机废气浓度可以达到200-300mg/L,远超的国家排卸的标准(10mg/L一些)。 废污水的成分及特征 焦化废水关键存在几个环节: 晶圆蚀刻工艺流程 :含高质量浓度氟化物(HF)、硝酸银及少量出血本属 生物厂家打磨(CMP)生活污水 :含纳米级级硅粒状、巧妙络合剂 专用设备清洁工作废渣 :含异丙醇、挥发酚等设计物 外理加工制作工艺 步奏 采取"化学反应沉积+混凝土沉积+长度过滤装置"二级除理设计: 三级除理 :污泥脱水氯化钙和氢被氧化钙,达成氟化钙沉淀出的,氟化物去掉率达85% 三级清理 :增加PAC(配位碱式氯化铝)和PAM(聚丙酰胺),的还原氢氧化铁态环境破坏物 二级治理 :确认多材质过滤清洁器和催化活性炭降解降解,出水量氟化物盐浓度平衡在8mg/L如下 关键点装备以及:pH主动调结程序、斜管乳浊液池、板框带式压滤机(废水脱水怎么办)。 结果是使用效果 项目流程开机运行2年评估统计资料提示: 氟化物人均渗透压:7.2mg/L(降至國家细则) COD去掉率:92% 生活污水含水分率:≤65% 年收废氟化钙副护肤品约150吨,进行成本化应用

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